薄膜生长实验室致力于探索和开发先进薄膜材料及其在各个领域的应用。实验室配备了尖端设备，包括分子束外延（MBE）、化学气相沉积（CVD）、脉冲激光沉积（PLD）和磁控溅射等系统，能够实现高质量薄膜的精确生长与控制。同时，采用多种薄膜生长技术，结合先进的表征手段，如X射线衍射（XRD）、透射电子显微镜（TEM）、原子力显微镜（AFM）等，确保材料的高纯度和高精度。

图1 薄膜生长实验室一览

主要功能：

（1）铁电薄膜：开发高性能铁电材料，用于下一代电子和电子器件。

（2）储能薄膜：研究新型储能薄膜，应用于高效电容器。

（3）功能纳米材料：探索具有独特物理和化学性质的纳米薄膜，实现能源存储、催化等领域的创新应用。

图2 磁控溅射系统和脉冲沉积系统